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海飞乐技术有限公司

快恢复二极管 肖特基二极管 MOS管 IGBT单管

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高压N沟道400V MOSFET场效应管选型

发布时间:2019-10-25 11:06:30       返回列表
  海飞乐技术目前产品范围包括有:MOS管、MOS模块、快恢复二极管、FRD模块、肖特基二极管、SBD模块、碳化硅二极管、IGBT等,各种以及宽禁带(WBG)半导体器件,涵盖变频、逆变、新能源汽车、充电桩、高频电焊、特种电源等应用领域。更多规格参数及封装产品请咨询我司人员,电话:15712055037  吴小姐,期待与您的合作! 

海飞乐技术高压N沟道400V MOSFET场效应管现货选型
Voltage (V) Current (A) Rdson (Ohm) Package 应用领域
400 6 0.75 1 TO-251/252/220 高压AC DC电源
400 9 0.68 0.8 TO-251/252 高压AC DC电源
400 10 0.36 0.5 TO-220/220F 高压AC DC电源
400 19 0.225 0.25 TO-220/220F 高压AC DC电源
400 25 0.13 0.155 TO-220/220F 高压AC DC电源

场效应管工作原理- - 绝缘栅型
  以N沟道耗尽型MOS管为例,如果在制造MOS管时,在SiO2绝缘层中掺入大量正离子,那么即使uGS=0,在正离子作用下P型衬底表层也存在反型层,即漏-源之间存在导电沟道。只要在漏-源间加正向电压,就会产生漏极电流,并且,uGS为正时,反型层变宽,沟道电阻变小,沟道电流iD增大;反之,uGS为负时,反型层变窄,沟道电阻变大,iD减小。而当uGS从零减小到一定值时,反型层消失,漏-源之间导电沟道消失,iD=0。实现了栅源电压对漏极电流的控制。
场效应管工作原理- - 增强型
  以N沟道为例,在一个N沟道增强模式器件中,应在栅源间加正向电压。正电压吸引了体中的自由移动的电子向栅极运动,形成了导电沟道。但是首先,充足的电子需要被吸引到栅极的附近区域去对抗加在FET中的掺杂离子;这形成了一个没有运动载流子的被称为耗尽区的区域,这种现象被称为FET的阈值电压。更高的栅源电压将会吸引更多的电子通过栅极,则会制造一个从源极到漏极的导电沟道;这个过程叫做"反型"。

  在开关电源应用方面,这种应用需要MOS管定期导通和关断。比如,DC-DC电源中常用的基本降压转换器依赖两个MOS管来执行开关功能,这些开关交替在电感里存储能量,然后把能量释放给负载。我们常选择数百kHz乃至1MHz以上的频率,因为频率越高,磁性元件可以更小更轻。在正常工作期间,MOS管只相当于一个导体。因此,我们电路或者电源设计人员**的是MOS的**小传导损耗。
  我们经常看MOS管的PDF参数,MOS管制造商采用RDS(ON)参数来定义导通阻抗,对开关应用来说,RDS(ON)也是**的器件特性。数据手册定义RDS(ON)与栅极(或驱动)电压VGS以及流经开关的电流有关,但对于充分的栅极驱动,RDS(ON)是一个相对静态参数。一直处于导通的MOS管很容易发热。另外,慢慢升高的结温也会导致RDS(ON)的增加。MOS管数据手册规定了热阻抗参数,其定义为MOS管封装的半导体结散热能力。RθJC的**简单的定义是结到管壳的热阻抗。

高压N沟道400V MOSFET场效应管选型

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