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海飞乐技术有限公司

快恢复二极管 肖特基二极管 MOS管 IGBT单管

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N沟道100V MOSFET场效应管选型

发布时间:2019-10-24 15:44:39       返回列表
  海飞乐技术目前产品范围包括有:快恢复二极管、FRD模块、肖特基二极管、SBD模块、MOS管、MOS模块,各种以及宽禁带(WBG)半导体器件,涵盖变频、逆变、新能源汽车、充电桩、高频电焊、特种电源等应用领域。更多规格参数及封装产品请咨询我司人员,电话:15712055037  吴小姐,期待与您的合作! 

海飞乐技术N沟道100V MOSFET场效应管现货选型
Voltage (V) Current (A) Rdson (Ohm) Package 用途
TYP MAX
100 2 200m 250m SOT-23/SOT-89 开关
100 3 130m 175m SOT-23/SOT-89 开关
100 3 130m 175m DFN3.3*3.3(双) 开关
100 5 80m 100m SOT-23/SOT-89 开关
100 10 125m 150m TO-251/252 开关
100 12 12m 16m SOP-8 开关
100 12 9m 12m SOP-8 开关
100 20 3.5m 4.5m SOP-8 开关
100 15 75m 100m TO-251/252/220 开关
100 15 40m 60m TO-251/252/220 开关
100 30 20m 30m TO-251/252/220/262/263 开关
100 40 14m 17m TO-251/252/220/SOP-8 开关
100 57 14m 18m TO-220/262/263 开关
100 60 10m 15m TO-251/252/220/262/263 开关
100 80 7.2m 8m TO-251/252/220/262/263 开关
100 180 3.3m 4m TO-220/262/263 开关
100 420 1m 1.6m SOT-227B 开关

  MOSFET在概念上属于“绝缘栅极场效晶体管”(Insulated-Gate Field Effect Transistor,IGFET),而IGFET的栅极绝缘层有可能是其他物质而非MOSFET使用的氧化层。有些人在提到拥有多晶硅栅极的场效晶体管元件时比较喜欢用IGFET,但是这些IGFET多半指的是MOSFET。

  MOSFET里的氧化层位于其通道上方,依照其操作电压的不同,这层氧化物的厚度仅有数十至数百埃(Å)不等,通常材料是二氧化硅(silicon dioxide,SiO2),不过有些新的进阶制程已经可以使用如氮氧化硅(silicon oxynitride,SiON)做为氧化层之用。

  今日半导体元件的材料通常以硅(silicon)为--,但是也有些半导体公司发展出使用其他半导体材料的制程,当中****的例如IBM使用硅与锗(germanium)的混合物所发展的硅锗制程(silicon-germanium process,SiGe process)。而可惜的是很多拥有良好电性的半导体材料,如砷化镓(gallium arsenide,GaAs),因为无法在表面长出品质够好的氧化层,所以无法用来制造MOSFET元件。

N沟道100V MOSFET场效应管选型

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